在中微研发出3nm蚀刻机之前，最主流的刻蚀装备精度在5nm水平，和EUV光刻机一样，被用来生产5nm高端芯片。虽然中微半导体在去年就已经突破了5nm蚀刻机，但也只是达到了和海外企业一样的水平，市场格局仍然被美企给掌握着。
不过，随着国产3nm蚀刻机的横空出世，美国在刻蚀领域的主导地位或将被一举改变！文章源自微观生活（93wg.com）微观生活-https://93wg.com/50998.html
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要知道，这项装备起源于西方，他们付出了近百年的努力才获得了5nm精度的成果。而我国仅用了20多年，就实现了反超！文章源自微观生活（93wg.com）微观生活-https://93wg.com/50998.html
美国科学院士,蚀刻专家John·Smith对此发出感叹：他们是如何做到的？这实在是太离谱了。文章源自微观生活（93wg.com）微观生活-https://93wg.com/50998.html
要知道，在十年之前，我国半导体产业中各项核心装备的缺口还非常大，即使是手里有的，相比西方也落后了近5个隔代。如今的情形，也难怪让John院士感到不可思议。文章源自微观生活（93wg.com）微观生活-https://93wg.com/50998.html
关于本次美国院士：离谱的问题分享到这里就结束了，如果解决了您的问题，我们非常高兴。文章源自微观生活（93wg.com）微观生活-https://93wg.com/50998.html 文章源自微观生活（93wg.com）微观生活-https://93wg.com/50998.html
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